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产品特点 | ● 可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆 ● 设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料 |
输入电压 | 220 VAC 50/60Hz |
电源输出 | ● 1600 VDC /250 W ● 电流150 mA . |
溅射头&样品台 | ● 2英寸角度可调节溅射头,带有水冷夹层 ● 一个手动操作挡板,用于保护靶材 ● 溅射头与样品台距离可调节,调节范围为60-100mm ● 设备中配有一循环水冷机(流量16L/min),用于冷却溅射头 |
振动样品台 | ● 振动样品台安装在真空腔体底部 ● 样品台振动频率可调节:6-33Hz ● 样品台直径为50mm,粉末放置于样品台上,溅射时粉末振动翻转,对粉体表面进行包覆 ● 建议样品量: <500 mg ● 建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um |
真空腔体 | 石英腔体尺寸, 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H |
控制面板 | 6英寸控制面板,可显示和设置所有参数,如真空和电流 |
真空度 | ● 一个KF25真空接口 ● 此系统需要Ar气瓶(上面安装减压阀)(设备中不包含) ● 真空度: ①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶 ● 真空度可达到<4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤) |
靶材 | ● 设备中包含一2英寸Cu靶,靶材厚度2.5mm ● 此设备可溅射 Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg,等各种金属靶材 ● 可选购射频等离子磁控溅射仪,用于溅射非导电靶材和碳靶 |
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产品尺寸 | |
净重 | 20 kg |
应用注意 | 警告: ●溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套 ●溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和理 ●注意:粉末样品必须干燥和分散 |